Composé et composition sensible aux rayonnements

Cette invention concerne un compose represente par la formule generale (1) ci-dessous, qui est une matiere premiere pour une composition sensible aux rayonnements capable de former un film resist qui est efficacement sensible a un faisceau d'electrons et analogues, ainsi qu'excellent en termes de rugosite faible et analogues, tout en etant capable de former de maniere stable un profil fin avec une precision elevee.