A Novel Duplex Low-temperature Chromizing Process at 500℃

在 500 °C 的一个优化低温度的渗铬过程经由由先锋血浆 nitriding 组成的一个双渗铬过程与 0.45 wt %碳在平凡的中等碳的钢上被认识到，并且跟随的盐洗澡 thermoreactive 免职和散开( TRD )有薄散开层的渗铬 process.CrN 层在下面被形成。双渗铬过程被光显微镜学(OM ) 学习，扫描电子显微镜学(SEM ) ，精力散 X 光检查光谱学(版本) ， X 光检查衍射(XRD ) ，和传播电子显微镜学(TEM ) 。在 500 °C 的渗铬速度被增加更多的 Cr-Fe 粉末进盐洗澡成功地提高，这被发现，并且 CrN 层在厚度与一般水准 8.1 亩 m 以优先的氮化物混合物 layer.A CrN 层的成本形成了，在微坚硬的 1382 HV_( 0.01 )被双渗铬更为 24 h.Further 在 500 °C 在底层上形成， CrN 层由 nanocrystalline CrN 谷物组成了。