Deposiçao e caracterização de filmes finos de ZrMoN por magnetron sputtering reativo

Filmes finos de ZrMoN foram depositados utilizando a tecnica de magnetron sputtering reativo com objetivo de estudar a influencia do teor de Mo na sua estrutura, propriedades mecânicas e resistencia a oxidacao. Para tal, foram selecionados tres revestimentos de ZrMoN com concentracoes de 23, 31 e 37 at.% de Mo. Diferentes razoes de Ar/N2 foram utilizadas na deposicao da matriz ZrN, a fim de obter um filme estequiometrico, e, assim fazer uso deste parâmetro na deposicao dos demais revestimentos. Analises de GIXRD identificaram um filme de ZrMoN cristalino com estrutura cfc. Os picos caracteristicos do ZrMoN seguiram os padroes da matriz ZrN com deslocamentos para ângulos maiores a medida em que mais Mo era adicionado, fato justificado pela acomodacao do Mo no reticulado cristalino do ZrN formando uma solucao solida cristalina do tipo substitucional. Resultados de nanodureza demonstraram valores de 33 GPa, para o filme com 23 at.% de Mo com posterior reducao apos ensaio de oxidacao. XPS confirma a formacao de uma estrutura bifasica de ZrN e MoN e mostra indicios de que ha uma solucao solida de Mo no ZrN, porem sem ligacao intermetalica Zr-Mo. Os ensaios de oxidacao ocorreram em temperaturas de 500°C, 600°C e 700°C. O ZrN a 500°C ainda mantem com baixa intensidade a presenca de graos relativos a fase do ZrN. O filme de ZrMoN, para qualquer concentracao de Mo, oxidou por completo a 500°C.