Appareil, procede, programme de traitement de substrat et support d'enregistrement lisible par ordinateur enregistre avec ce programme

L'invention concerne un appareil de formation de motif (1) qui comprend un dispositif d'essai (400) qui mesure l'etat d'un motif de reserve forme sur un substrat W apres developpement et sortie du premier resultat de mesure, et l'etat d'un motif de reserve forme sur le substrat W apres gravure et sortie du second resultat de mesure; un moyen de stockage (502) enregistre avec une formule de correlation obtenue du premier et du second resultats de mesure; et une unite de commande (500) qui regle les conditions dans le premier et/ou le second traitements thermiques sur la base de la difference entre la valeur cible et l'etat du motif apres developpement et le premier resultat de mesure en obtenant la valeur cible de l'etat du motif apres developpement a partir de la valeur cible de l'etat du motif apres gravure sur la base de la formule de correlation.