Liquide pour exposition par immersion et procédé d’exposition par immersion

Il est prevu un liquide pour exposition par immersion ayant un indice de refraction eleve empechant l’elution ou la dissolution d’un composant de film photoresist ou d’un composant de film d’une couche superieure du film photoresist et supprimant tout defaut pendant la formation de motif de resist dans des procedes d’exposition par immersion. Il est egalement prevu un procede d’exposition par immersion utilisant un tel liquide. Il est prevu specifiquement un liquide utilise dans un appareil d’exposition par immersion ou un procede d’exposition par immersion dans lequel l’exposition fait appel a un liquide verse dans l’espace entre une lentille de systeme optique a projection et un substrat. Ce liquide est a l’etat liquide dans la plage de temperatures de fonctionnement de l’appareil d’exposition par immersion, et il se compose d’un compose hydrocarbure alicyclique ou d’un compose hydrocarbure cyclique contenant un atome de silicium dans la structure annulaire.