Formulation de decapage contenant catechol, hydroxylamine, eau et amines autres que alcanolamines, destinee au nettoyage des plaquettes ayant subi un brulage au plasma

Cette invention se rapporte a une formulation utilisee dans la fabrication de semi-conducteurs pour le nettoyage des plaquettes de semi-conducteurs, apres le brulage au plasma. Ladite formulation contient les composants suivants: du catechol ou un agent chelatant de 1,3-dicarbonyle, de l'eau, de l'hydroxylamine et une amine non alcanolamine. Les amines preferees, autres que alcanolamines, sont des amines secondaires et/ou tertiaires, et notamment 3,3'-iminobis (N,N-dimethylpropylamine), pentamethyldiethylenetriamine et triethylamine. Les agents chelatants de 1,3-dicarbonyle preferes sont 2,4-pentanedione et acetoacetate de methyle.