Procédés de simulation de processus basés sur un modèle

L'invention concerne une simulation lithographique utilisant un modele differentiel. Ledit modele differentiel decrit les caracteristiques d'imagerie de deux scanners correspondant a des reglages de scanner accordable et non-accordable. On derive un modele pour l'un des deux scanners par utilisation du modele de l'autre scanner et du modele differentiel. De la meme maniere, un modele de sensibilite exprime les differences dans des systemes et des procedes destines a une simulation de processus. Les caracteristiques d'imagerie du scanner associe aux differents reglages de scanner. L'invention concerne egalement des procedes pour etalonner le modele differentiel et le modele de sensibilite par comparaison des resultats imprimes.