Ensemble pont rf d'équilibrage

Les modes de realisation selon la presente invention ont en regle generale trait a un appareil de depot chimique en phase vapeur assiste par plasma. Lorsque le bloc d'alimentation RF est couple a l'electrode a de multiples emplacements, le courant et la tension peuvent etre differents aux multiples emplacements. Afin de garantir que le courant et la tension sont tous deux sensiblement identiques aux multiples emplacements, un ensemble pont RF peut etre couple entre les multiples emplacements a un emplacement se trouvant juste avant la connexion a l'electrode. L'ensemble pont RF egalise sensiblement la repartition de la tension ainsi que la repartition du courant entre les multiples emplacements. Par consequent, un courant et une tension sensiblement identiques sont appliques a l'electrode aux multiples emplacements.