Binary thin films deposited by ion beams ; simple estimate of the near-surface and bulk composition

L'article decrit un modele simple d'estimation de la composition, en surface et dans le volume de couches minces binaires deposees a partir d'ions des deux constituants. Le modele est applique dans le cas de couches Si-C, deposees par ions de carbone et de silicium et les resultats obtenus sont compares a ceux d'un depots forme lorsque seulement l'un des constituants est ionise (C) alors que l'autre (Si) reste neutre.