Dispositif et procédé pour maintenir un substrat dans une chambre à plasma

La presente invention concerne generalement un procede et un appareil servant a controler et a maintenir la platitude d'un substrat dans un reacteur a plasma. Certains modes de realisation de la presente invention concernent un procede de traitement d'un substrat consistant a positionner le substrat sur un dispositif de fixation electrostatique, a appliquer une puissance RF entre une electrode dans le dispositif de fixation electrostatique et une contre-electrode positionnee parallelement au dispositif de fixation electrostatique, a appliquer une polarisation CC a l'electrode dans le dispositif de fixation electrostatique pour maintenir le substrat sur le dispositif de fixation electrostatique, et a mesurer l'impedance imaginaire du dispositif de fixation electrostatique.