Composition pour gravure, en particulier pour les matériaux de silicium, procédé de caractérisation des anomalies présentes à la surface de ces matériaux et procédé de traitement de ces surfaces avec la composition pour gravure

Cette invention concerne une composition pour gravure, en particulier pour les materiaux de silicium, un procede de caracterisation des anomalies presentes a la surface de ces materiaux et un procede de traitement de ces surfaces avec la composition pour gravure, ladite composition pour gravure comprenant un oxydant organique dissous dans un solvant, et un desoxydant, ledit desoxydant comprenant HF ou HBF 4 ou leurs melanges.