离子液体[EMIM][PF6]负载纳米SiOx表面的熔点及结构

制备了离子液体（1-乙基-3-甲基咪唑六氟磷酸【EMIM][PF。】）负载量不同的多孔纳米氧化硅（SiOx），并采用差式扫描量热分析（DSC）、X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱、傅里叶变换红外（FTIR）光谱分析等手段研究离子液体负载纳米氧化硅后的熔点变化及相行为．研究表明负载于纳米氧化硅表面的离子液体熔点明显下降，且负载于不同表面羟基含量的氧化硅表面熔点下降幅度不同．纯离子液体[EMIM][PFe】熔点为62℃，在纳米氧化硅表面负载量为35％时熔点为52。C，比负载前下降10℃：负载于另两种不同羟基含量的纳米氧化硅表面后熔点分别下降20和17℃．而同一种纳米氧化硅（比表面积为640m2·g-1）在负载量小于50％时，熔点下降明显：进一步增大负载量，熔点逐渐趋于本体．XRD和Raman光谱分析显示，离子液体负载于氧化硅表面后其衍射峰或吸收峰相对强度发生明显改变．分析负载前后纳米氧化硅的结构变化，推断离子液体熔点下降的主要原因是离子液体分子与纳米氧化硅表面之间存在强烈的界面相互作用，而表面羟基的密度及比表面积是影响负载后[EMIM][PF4离子液体相行为的主要因素．