多孔MoS2/g-C3N4材料对水环境中四环素的降解

通过浸渍-高温煅烧法制备多孔MoS2/g-C3N4光催化剂，采用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、N2吸附-解吸、紫外-可见光(UV-vis)漫反射吸收光谱对材料进行表征；并在可见光照射下，对四环素(TC)进行光催化降解。结果表明，催化剂量为2.0 g·L-1、pH为5.0时，对TC的去除效果最好，可见光照射180 min，MoS2/g-C3N4(1.0%-MC)复合材料对TC的降解率可达80.6%。反应完成后，复合材料循环利用5次，其降解效率仍保持在70.0%以上。浸渍-高温煅烧法所制备的MoS2/g-C3N4光催化剂具有良好的应用前景。