Dispositif de production de nanoparticules à haut rendement, utilisation dudit dispositif et procede de depot de nanoparticules

Le dispositif de production de nanoparticules (NP) comprend une cible (1 ) munie d'une face (la) source des nanoparticules, et un magnetron (2) generant un premier champ magnetique, la cible (1) etant montee sur le magnetron (2) et le premier champ magnetique formant des lignes de champ au niveau de la face (la) source des nanoparticules. Le dispositif comporte en outre des moyens d'equilibrage (7, 8, 9), du premier champ magnetique au niveau de la cible (1), agences pour refermer des lignes de champ fuyantes du premier champ magnetique et maintenir lesdites lignes refermees au niveau de ladite face (la) source des nanoparticules, lesdits moyens d'equilibrage (7, 8, 9) etant distincts du magnetron (2).