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招待講演 Type-IIエネルギーバンド構造を有する酸化物半導体/(Si,SiGe,Ge)積層型トンネル電界効果トランジスタの提案と動作実証 (シリコン材料・デバイス) -- (先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集))
招待講演 Type-IIエネルギーバンド構造を有する酸化物半導体/(Si,SiGe,Ge)積層型トンネル電界効果トランジスタの提案と動作実証 (シリコン材料・デバイス) -- (先端CMOSデバイス・プロセス技術(IEDM特集))
2018
kimihiko katou
hiroaki matui
hitosi tahata
juu takenaka
sin'iti takagi
Keywords:
Optoelectronics
Materials science
oxide semiconductor
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