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B⁺およびB₁₀H₁₄⁺注入Si基板の軟X線照射による活性化 (シリコン材料・デバイス)
B⁺およびB₁₀H₁₄⁺注入Si基板の軟X線照射による活性化 (シリコン材料・デバイス)
2014
akira bu ie
si kusakabe
syouta heiya
Keywords:
Atomic physics
Electron excitation
Chemistry
Silicon
Materials science
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