PLAZMA DALDIRMA İYON İMPLANTASYONU VE BİRİKTİRME (PIII&D) PROSESİ GERİLİMLERİNİN AZOT PLAZMASINDA ORTOPEDİK İMPLANT MALZEMESİ Ti6Al4V YÜZEYİNDE OLUŞTURULAN Ag KAPLAMALARININ MORFOLOJİLERİNE, FAZ OLUŞUMLARINA ve E-Coli. ADEZYONUNA ETKİLERİ

2017 
Gumusun antimikrobiyal etkisini ve titanyum nitrurun mekanik ve kimyasal ozelliklerini birlestirmek icin, ortopedik implant malzemesi olarak kullanilan Ti6Al4V alasiminin yuzeyine N2 plazmasinda plazma daldirma iyon implantasyonu ve biriktirme (PIIID bunun yaninda, negatif darbeli yuksek gerilimin artmasiyla yuzeyde gumus miktarinin azaldigi gozlemlenmistir.
    • Correction
    • Source
    • Cite
    • Save
    • Machine Reading By IdeaReader
    0
    References
    1
    Citations
    NaN
    KQI
    []