Source de plasma améliorée pour un réacteur à plasma

Des modes de realisation de l'invention concernent un appareil ayant un ensemble antenne a cadre ameliore qui peut fournir un plasma ameliore dans une chambre de traitement. L'ensemble antenne a cadre ameliore ameliore une commande de position d'un emplacement de plasma dans une chambre de traitement de plasma, et peut etre utilise dans des systemes de gravure, de depot, d'implant et de traitement thermique, parmi d'autres applications dans lesquelles la commande d'emplacement de plasma est souhaitable. Dans un premier mode de realisation, un ensemble electrode configure pour etre utilise dans un appareil de traitement a semi-conducteurs comprend un raccord conducteur RF et un element conducteur ayant une premiere extremite reliee electriquement au raccord conducteur RF, l'element conducteur s'etendant vers l'exterieur et verticalement a partir du raccord conducteur RF.