Procédé de dépôt d'un film de carbone amorphe à densité améliorée et étapes associées

La presente invention concerne un procede de depot d'une couche de carbone amorphe sur un substrat qui inclut les etapes de positionnement d'un substrat dans une chambre, d'introduction d'une source d'hydrocarbure dans la chambre de traitement, d'introduction d'un gaz noble lourd dans la chambre de traitement et de generation d'un plasma dans la chambre de traitement. Le gaz noble lourd est choisi dans le groupe qui comprend l'argon, le krypton, le xenon et leurs combinaisons et le debit molaire du gaz noble est plus eleve que le debit molaire de la source d'hydrocarbure. On peut inclure une etape d'arret apres depot pendant laquelle l'ecoulement de la source d'hydrocarbure et du gaz noble est arrete tandis qu'un plasma reste dans la chambre pendant un certain temps pour en eliminer les particules.