Substrat d'ébauche de masque, ébauche de masque, ébauche de masque réfléchissant, masque de transfert, masque réfléchissant et procédé de fabrication associé

La presente invention a pour objet un substrat d'ebauche de masque, une ebauche de masque et un masque de transfert qui, pendant un meulage, permettent d'eliminer les effets negatifs sur la planeite d'une marque de substrat comprenant une surface oblique et d'accroitre la planeite. La presente invention a egalement pour objet un procede de fabrication du substrat d'ebauche de masque, de l'ebauche de masque et du masque de transfert. Une marque de substrat (4) comprenant une surface oblique est formee dans un substrat d'ebauche de masque (1). L'angle d'inclinaison de la marque de substrat (4) par rapport a une surface principale (112) est compris entre 45° et 90° (limites exclues) et la distance (W 1 ) depuis la limite entre la marque de substrat (4) et la surface principale (112) jusqu'a la peripherie exterieure du substrat d'ebauche de masque (1) est inferieure a 1,5 mm.