電磁波プラズマ発生装置、その発生方法、その表面処理装置、およびその表面処理方法。

【課題】小さい負バイアス電圧値で電磁波プラズマを発生させ、パイプのような高アスペクト比の内部形状を有する被処理部材の内部に前記電磁波プラズマを均一に伝搬させる電磁波プラズマ発生方法およびその発生装置を提供することを目的とする。 【解決手段】ガス供給部４０、ガス排出部４１および電磁波供給部２２が備えられたチャンバー１０と、被処理部材３にバイアス電圧を印加するバイアス印加手段３０とを具備しており、被処理部材３の中空部５にプラズマを発生させる電磁波プラズマ発生装置であって、前記電磁波供給部２２が前記チャンバー１０内を望む位置に配置され、かつ前記被処理部材３が前記チャンバー１０内に配置されるとともに、前記チャンバー１０内で発生されるプラズマ生成領域を前記中空部５内に誘導するプラズマ誘導手段１が少なくとも１つ以上備えられている電磁波プラズマ発生装置１０１を用いることにより、上記課題を解決できる。 【選択図】図１