Influence de la vapeur d'eau au cours de l'oxydation du Zircaloy-4 à 500°C. Détermination des contraintes de croissance par diffraction des rayons X.

La determination du niveau de contrainte dans la couche de zircone et dans le substrat Zircaloy-4 (Zy-4) a la temperature de fonctionnement est un parametre important pour la comprehension de l'effet de la vapeur d'eau sur le mecanisme d'oxydation. La diffraction des rayons X (DRX) in situ dans des environnements oxydants secs et humides a haute temperature sur les echantillons de Zy-4 a ete utilisee afin de fournir une description precise de la structure et de la microstructure des couches d'oxyde. Le but de ce travail est de montrer l'influence de la vapeur d'eau sur les contraintes de croissance developpees a haute temperature dans la couche d'oxyde.