Alimentation en fluide basée sur un réactif source avec flux de matériau élevé pour dépôt discontinu

L'invention concerne des systemes, des plateaux de support de reactif, des dispositifs de suppression de particules et des methodes. Selon un aspect, un systeme comprend un recipient vaporiseur avec une ou plusieurs parois interieures enfermant un volume interieur et une pluralite de plateaux de support de reactif concus pour pouvoir etre empiles verticalement dans le volume interieur. Chaque plateau de support de reactif de la pluralite est concu pour pouvoir etre empile verticalement dans le volume interieur pour former une pile de plateaux de support de reactif. Un ou plusieurs plateaux de support de reactif de la pluralite sont concus pour rediriger un flux de gaz passant entre des plateaux de support de reactif adjacents dans la pile de plateaux de support de reactif afin de provoquer l'interaction du flux de gaz avec le materiau reactif source dans un plateau de support de reactif particulier avant de passer dans un plateau de support de reactif suivant de la pluralite dans la pile de plateaux de support de reactif.