Procede de depot chimique en phase vapeur au moyen d'ecoulement de gaz pulse

La presente invention a trait a un procede de depot de couche pelliculaire. On effectue le depot d'une couche pelliculaire en utilisant un processus de depot cyclique. Le processus de depot cyclique consiste essentiellement en un ecoulement continu d'un ou de plusieurs gaz de traitement et la pulsion alternee d'un precurseur et de l'energie en vue de former un film sur une structure de substrat.