Procédé de fabrication de films nanostructurés épais obtenus à partir d'une composition de copolymères à blocs

La presente invention porte sur un procede de fabrication de films nanostructures obtenus a partir de copolymeres a blocs presentant un indice de dispersion compris entre 1,1 et 2, inclus, sans defaut de nanostructuration, sur une surface, afin que cette surface traitee puisse etre utilisee comme masque pour des applications en microelectronique.