Liquide de revêtement permettant la formation de revêtement transparent et procédé permettant la production dudit liquide de revêtement, sol de dispersion de résine organique et substrat portant un revêtement transparent et procédé permettant la production dudit substrat

La presente invention se rapporte a un revetement transparent a haute resistance qui a une haute resistance dans le cas d'un substrat en resine et qui, dans le cas d'un film epais, provoque peu de retrait du film, ne donne pas lieu a des craquelures et supprime le gondolage. L'invention se rapporte a un liquide de revetement permettant la formation d'un revetement transparent, ledit liquide de revetement comprenant des particules d'oxyde metallique ayant une taille moyenne de particule dans la plage de 5 a 300 nm et ayant un constituant formant une matrice, le constituant formant une matrice comprenant une premiere resine organique ayant au maximum deux groupes fonctionnels et une seconde resine organique ayant au moins trois groupes fonctionnels, la concentration (C P ) des particules d'oxyde metallique en termes de teneur en matiere solide etant de 45 a 90 % en poids, la concentration (C R ) du constituant formant une matrice en termes de teneur en matiere solide etant de 10 a 50 % en poids, la concentration de teneur en matiere totale (C T ) etant d'au moins 60 % en poids et le rapport (C R /C P ) de la concentration (C­ R ) a la concentration (C P ) etant dans la plage de 0,11 a 1,0.