Bobine couplée inductive et dispositif plasma couplé inductif utilisant ladite bobine

Une bobine couplee inductive ou un dispositif plasma couple inductif utilisant ladite bobine comprend une bobine interne et une bobine externe. La bobine interne et la bobine externe sont independantes et sont alignees coaxialement. La bobine interne comprend plusieurs sous-bobines internes independantes imbriquees de structure identique, et ces differentes sous-bobines internes independantes sont disposees symetriquement par rapport a un axe. La bobine exterieure comprends plusieurs sous-bobines externes independantes imbriquees de structure identique et ces differentes sous-bobines externes independantes sont disposees symetriquement par rapport a un axe. La bobine couplee inductive est placee sur la chambre de reaction du dispositif plasma couple inductif et est connectee a une puissance radioelectrique. Elle permet la repartition uniforme du plasma sur la puce dans la chambre de reaction, de sorte que la difference de vitesse de la reaction chimique sur la surface de la puce est faible et que la qualite de la puce gravee est amelioree. Ces bobines peuvent etre utilisees dans un dispositif de traitement de puce semi-conductrice et dans d'autres dispositifs.