Procede et dispositif de generation de lumiere dans l'extreme ultraviolet notamment pour la lithographie

Selon l'invention, on fait interagir un faisceau laser (24) et un brouillard dense (20) de micro-gouttelettes d'un gaz rare liquefie. On utilise en particulier le xenon liquide (6), on produit ce dernier par liquefaction de xenon gazeux (10) avec lequel on pressurise le xenon liquide a une pression de 5x105 Pa a 50x105 Pa, et l'on maintient ce xenon liquide a une temperature de -70°C a -20°C, on injecte le xenon liquide pressurise dans une buse (4) dont le diametre interieur minimal va de 60 νm a 600 νm, cette buse debouchant dans une zone ou la pression est egale ou inferieure a 10-1 Pa.