Implant osseux et procede de fabrication

L'invention concerne un procede de fabrication d'un implant osseux osteoinducteur, consistant a demineraliser une partie ou l'ensemble d'au moins une surface d'une section monolithique de corticale jusqu'a une profondeur d'au moins 100 microns environ, et a configurer la section monolithique de corticale afin de realiser un implant osseux presentant une surface exterieure comportant au moins une zone demineralisee et une zone non demineralisee. Un implant fabrique selon ledit procede offre une osteoinduction amelioree sans creer de diminution de resistance ayant une importance clinique dans des zones critiques de l'implant osseux.