反应磁控溅射法制备ZnO/Al (O)/ZnO薄膜的光学和电学性能

采用反应磁控溅射法，通过控制中间层沉积时的氧气流量，在聚对苯二甲酸乙二醇酯基底上制备了ZnO/Al（O）/ZnO薄膜，研究了氧气流量对Al（O）薄膜的微观形貌、表面粗糙度，以及对ZnO/Al（O）/ZnO薄膜光学和电学性能的影响。结果表明：随着氧气流量的增加，铝在ZnO薄膜表面由三维岛状生长转变为二维层片状生长，Al（O）薄膜表面粗糙度先增大后减小再增大，当氧气流量为6.7×10-3 cm3·s-1时最小；随着氧气流量的增加，ZnO/Al（O）/ZnO薄膜在较长波长范围内的透过率增大，方阻增大，霍尔迁移率和载流子浓度下降；综合考虑光学和电学性能，适宜的氧气流量为6.7×10-3 cm3·s-1。