ULSI/GLSI低Na CMP浆料的纯化效率

2011 
摘要:采用离子交换法去除ULSI/GLSICMP浆料SiO2水溶胶中的Na^+。介绍了微电子专用CMPSiO2水溶胶纯化的研究现状。实验分析了SiO2水溶胶中Na^+与阳离子树脂的交换机理,硅溶胶中Na^+去除分为硅溶胶溶液中Na^+的去除和被硅溶胶胶团吸附Na^+的去除。在交换动态平衡时,动态交换1h较静态交换24h生产效率提高了20多倍。同时阳1-阳1、阳2-阳1、阳3-阳1、阳1-阴1-阳1等离子交换工艺均能得到很好的纯化效果CNa^+〈5×10^-6,不仅循环利用了树脂,而且酸碱耗量减少了50%以上。同时纯化硅溶胶配成碱性抛光液在硅片CMP应用中取得良好的结果。
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