Source de plasma pour une génération d'oscillations non linéaires, à large bande, périodiques, dirigées et élastiques et système et procédé de stimulation de puits, de dépôts et de trous de forage à l'aide de ladite source de plasma

La presente invention concerne une source de plasma destinee a generer des oscillations non lineaires, a large bande, periodiques, dirigees et elastiques dans un milieu fluidique. La source de plasma selon l'invention comprend un emetteur de plasma comportant deux electrodes delimitant un espace, un dispositif de pose permettant d'introduire un conducteur metallique dans l'espace, et un transformateur haute tension destine a alimenter en puissance l'emetteur de plasma. L'invention concerne en outre un systeme et un procede destines a stimuler des puits, des depots et des trous de forage par l'intermediaire d'oscillations periodiques commandees generees a l'aide de la source de plasma. Ledit systeme comprend la source de plasma, une unite de commande au sol et un câble de support. Selon le procede de l'invention, la source de plasma est immergee dans le milieu fluidique d'un puits, d'un depot ou d'un trou de forage et est utilisee pour creer un plasma metallique dans l'espace. Le plasma metallique emet une impulsion de pression et des ondes de choc qui sont dirigees dans le milieu fluidique. Des oscillations non lineaires, a large bande, periodiques et elastiques sont generees dans le milieu fluidique, notamment des oscillations resonantes generees par le passage des ondes de choc.