感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法

【課題】 超微細の孔径（例えば、６０ｎｍ以下）を有し、かつ、真円性に優れるホールパターンを、良好な現像時間依存性を以って形成可能な、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供する。 【解決手段】（Ｐ）下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位（ａ）を有する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全固形分に対する前記化合物（Ｂ）の含有量が８．０質量％以上である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス。 上記一般式（Ｉ）中、Ｒ ０ は、水素原子又はメチル基を表す。 Ｒ １ 、Ｒ ２ 及びＲ ３ は、各々独立に、直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。 【選択図】なし