An apparatus for processing of wafers

Vorrichtung zum Verarbeiten eines Wafers, aufweisend: eine Stromungskammer mit einem Rahmen (160) und einem ersten Gaseinlass an der Oberseite des Rahmens (160), der es einem ersten Gas ermoglicht, von der Oberseite des Rahmens (160) in die Stromungskammer einzustromen; einen Wafereinlass mit einer Offnung (170), an welchem der Wafer in die Stromungskammer gelangt, wobei der Wafereinlass mit einer Waferaufbewahrungsvorrichtung gekoppelt ist; einen Waferauslass, bei welchem der Wafer die Stromungskammer verlasst, wobei der Waferauslass dazu in der Lage ist, mit einer Waferverarbeitungsvorrichtung gekoppelt zu sein; eine Robotervorrichtung in der Stromungskammer zum Bewegen des Wafers von dem Wafereinlass zu dem Waferauslass; einen zweiten Gaseinlass mit einer Inertgasduse (110), welche benachbart und oberhalb zu der Offnung (170) in dem Rahmen (160) angeordnet ist und die es dem zweiten Gas ermoglicht, derart in die Stromungskammer zu gelangen, dass das zweite Gas sich mit dem ersten Gas verbindet und in die...