化学増幅型レジスト材料、パターン形成方法、化合物及び化合物の製造方法

【課題】ＥＵＶ光等の電離放射線等を利用したパターン形成技術の実用化に有用な化学増幅型レジスト材料を提供する。【解決手段】レジスト材料膜の所定の箇所に電離放射線又は非電離放射線を照射するパターン露光工程と、上記レジスト材料膜に非電離放射線を照射する一括露光工程と、上記レジスト材料膜を加熱するベーク工程と、レジストパターンを形成する現像工程とを備えるプロセスにおいて使用される化学増幅型レジスト材料であって、（１）ベース成分と（２）露光により感放射線性増感体及び酸を発生する成分とを含み、上記（２）成分は、（ａ）感放射線性酸−増感体発生剤、（ｂ）感放射線性増感体発生剤、及び（ｃ）感放射線性酸発生剤のうち、（ａ）成分及び（ｂ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分又は（ａ）〜（ｃ）成分の全てを含有し（ｂ）成分が式（Ａ）で表される化合物を含む。【選択図】なし