プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、これに用いられる誘電体窓及びその製造方法

均一性に優れたプラズマドーピングを実現する。 　真空容器１内に、ガス供給装置２及び１６から所定のガスを導入しつつ、排気装置としてのターボ分子ポンプ３により排気口１１を介して排気を行い、調圧弁４により真空容器１内を所定の圧力に保つ。高周波電源５により１３．５６ＭＨｚの高周波電力を試料電極６に対向した誘電体窓７の近傍に設けられたコイル８に供給することにより、真空容器１内に誘導結合型プラズマを発生させるもので、誘電体窓７が複数の誘電板から構成され、少なくとも相対向する２枚の誘電板の少なくとも片面に溝が形成され、前記溝と前記溝の対向する平坦面とでガス流路を構成するとともに、試料電極に最も近い誘電板に設けられたガス吹き出し口１５，１９が誘電体窓内で溝に連通されている。ガス吹き出し口１５及び１９から導入されるガスの流量を、独立に制御することができ、処理の均一性を高めることができる。