Procede de preparation de film zeolitique de type ddr, film zeolitique de type ddr, film composite zeolitique de type ddr et procede de preparation de ce dernier

La presente invention concerne un film zeolitique de type DDR caracterise par le fait qu'il est forme sur un substrat. Il comprend du silice comme composant principal et presente par rapport a au moins deux gaz selectionnes dans le groupe constitue de dioxyde de carbone (CO2), hydrogene (H2), oxygene (O2), azote (N2), methane (CH4), n-butane (n-C4H10), isobutane (I-C4H10), hexafluor de soufre (SF6), ethane (C2H6), ethylene (C2H4), propane (C3H8), propylene (C3H6), monoxyde de carbone (CO) et monoxyde d'azote (NO), differentes permeabilites entre des gaz simples respectifs a temperature ambiante et a 1000 C.