Procédé de gravure, procédé de production d'un substrat semi-conducteur et d'un dispositif à semi-conducteur l'utilisant, et kit de préparation d'un liquide de gravure

L'invention concerne un procede de gravure d'un substrat semi-conducteur, comprenant les etapes suivantes : preparation d'un liquide de gravure en melangeant un premier liquide avec un second liquide de facon a obtenir un pH dans la plage de 8,5 a 14, le premier liquide contenant un compose basique et le second liquide contenant un agent oxydant; puis application du liquide de gravure sur un substrat semi-conducteur au moment voulu afin de graver une couche contenant du Ti dans ou sur le substrat semi-conducteur.