FILMS WITH GRADED REFRACTIVE INDEX BASED ON SILICON AND TITANIUM OXII ES. APPLICATION TO SOLAR CELLS

Des films minces avec des indices de refractions variables constitues d'oxydes de silicium et de Titane ont ete deposes par ECR-PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition using Electron Cyclotron Resonance) en utilisant un plasma d'oxygene et le tetraethoxysilanc (TEOS) et l'isopropoxide de titane (TIPT ) comme gaz precurseurs. Le controle automatise des debits de gaz precurseurs permet de modifier la composition chimique des films deposes et par consequent leurs indices optiques. Des films a gradient d'indice de refraction, realise par cette methode de depot semblent particulierement interessants pour des applications solaires. Pour controler l'epaisseur, l'indice de refraction et la cinetique de croissance un spectro-ellipsometre a ete adapte au bâti de depot. Le depouillement des spectres ellipsometriques releves a la fin de chaque depot permet de connaitre le profil d'indice et les proprietes optiques des films deposes. Des mesures de reflectivite ont ete relevees dans la gamme UV-Visible-proche IR. Les resultats obtenus centrent que ces films realises a basse temperature pourraient etre utilises comme revetements anti-reflechissants pour des cellules solaires. La valeur mesuree de la reflectivitf moyenne ponderee entre 00 et 1100nm est de 3.7% ce qui permettrait d'ameliorer le courant photo-genere de 48%.