Les procédés de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-onde (MPACVD) pour la croissance de carbone diamant

2001 
Apres un bref historique portant sur le developpement des differentes techniques CVD utilisees pour le depot de diamant, cet article decrit les reacteurs developpes pour la synthese de diamant par procedes MPACVD basse pression. Le role des especes reactives telles que l'hydrogene atomique et les radicaux carbones ainsi que l'influence des parametres experimentaux sur la croissance sont presentes.
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