Verfahren zum Abscheiden von insbesondere kristallinen Schichten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

1. Verfahren zum Abscheiden insbesondere kristalliner Schichten auf insbesondere kristallinen Substraten, in einer Prozesskammer (1) eines CVD-Reaktors, wobei zumindestens ein erstes (G1) und ein zweites (G2) Reaktions gas voneinander getrennte Zuleitungen (6,7) in jeweils eine Gasaustrittszone (8, 9) in einer Eingangs zone(E) der Prozesskammer (1) geleitet werden, wobei die Gasaustrittszonen (8, 9) zwischen dem Prozesskammerboden (2) und der Prozesskammerdecke (3) ubereinander liegen und unterschiedliche Hohen (H1, H2) haben, wobei das erste Reaktionsgas (G1) gegebenenfalls zusammen mit einem Tragergas (T1) aus der Prozesskammerboden (2) benachbarten gasaustrittszone (9) stromt und wobei zumindestens dem aus dem Prozesskammerboden (2) entfernt liegenden Gasaustrittszone (9) stromende zweites Reaktionsgas (G2) ein Tragergas (T2) beigemischt ist und die Stromungsparameter so gewalt sind, dass sich das zweite Reaktiongas (G2) im Wesentlichen nur in der Einganszone (E) pyrolytisch zerlegt und die Zerlegunsprodukte in einer stromabwarts der Eingangszonne (E) angeordneten Depositionszone (D) quer zur Stromrichtung der Gase (G1, G2, T1, T2) zu einem auf dem Prozesskammerboden (2) angeordnetem Substrat (4) diffundieren, umdort zusammen mit Zerlegungsprodukten des ersten Reaktionsgases (G1) zu einer Schicht zu kondensieren. Damit auch bei langeren Depositionszonen die Zerlegung der metallorganischen Zerlegungsprodukte im wesentlichen nur in der Eingangszone stattfindet und die Partialdrucke der Zerlegungsprodukte (Verarmung) in der Gasphase uber der Depositionszone im Wesentlichen einen linearen Verlauf behalt, schlagt die Erfindung vor, dass die kinematische Viskositat des dem zweiten Reaktionsgas (G2) beigemischten Tragergases (T2)insbesondere durch Mischung von zwei sich in ihrer kinematischen Viskositat stark unterscheidenden Gase (T2', T2') derart eingestellt wird, dass der Quotient der Reynolds-Zahlen (Ri, R2) in den beiden Gasaustrittszonen (8, 9) bei im Wesentlichen annahernd gleichgrossen mittleren Gasgeschwindigkeiten annahernd eins ist. Leitfigur: Fig. 1