Appareil de traitement au plasma

L'invention concerne un appareil de traitement au plasma qui peut generer du plasma a une densite superieure aux densites auxquelles le plasma est genere par des appareils de traitement au plasma employant des systemes d'antenne externes, et qui peut supprimer le melange d'impuretes dans un objet a traiter ainsi que la generation de particules, ledit melange d'impuretes et ladite generation de particules etant des problemes des appareils de traitement au plasma employant des systemes d'antenne internes. L'appareil de traitement au plasma selon l'invention comprend : un recipient sous vide (11) compose d'un metal ; une section de disposition d'antenne (14) ayant une antenne a haute frequence (18) dispose a l'interieur d'un trou traversant (cavite) qui est present dans la paroi superieure (112) du recipient sous vide (11) ; et une plaque de partitionnement (15) qui est composee d'un materiau dielectrique et qui couvre la totalite de la surface interieure (1121) de la paroi superieure (112). Dans cet appareil de traitement au plasma, comme la formation d'un palier entre la surface interieure (1121) et la plaque de partitionnement (15) est empechee en couvrant l'integralite du cote surface interieure (1121) de la paroi superieure (112) avec la plaque de partitionnement (15), la production de particules resultant de la generation de materiau adherant a une portion en palier est empechee.