Systeme lithographique sous masque et sans discontinuite comprenant un modulateur spatial de lumiere

Cette invention concerne un systeme lithographique de projection dans lequel on a remplace les masques par un modulateur spatial de lumiere (MSL) programmable a puissance de traitement parallele elevee. On illumine le MSL avec une source de rayonnement (1) pour produire sur un substrat (5) une image a motif de plusieurs pixels via un systeme (4) de projection. Le MSL prefere est un dispositif a micro-miroir deformable (3) qui assure la selection des pixels par reflexion a l'aide d'un laser a impulsions synchrones. Un autre MSL se presente sous forme d'une valve a cristaux liquides (VCL) (45) qui assure la selection des pixels passants. La programmation electronique permet de commander la selection des pixels pour corriger les erreurs des elements de pixels errones. La commande de selection des pixels assure egalement l'imagerie negative et positive et le developpement polygonal de recouvrement complementaire pour produire un dosage uniforme sans discontinuite. Cette invention permet d'obtenir un mouvement de balayage sans disconuite par recouvrement complementaire pour egaliser le dosage de rayonnement, afin d'exposer un motif sur un substrat (5) ayant une grande surface. Cette invention est adaptee au prototypage rapide, a la fabrication de dispositifs souples et meme a la production des masques.