Source plasma de faisceau d'électrons à paroi de chambre profilée pour génération de plasma uniforme

Selon la presente invention, un reacteur plasma qui genere un plasma dans une chambre de traitement de piece de travail par un faisceau d'electrons, a une chambre de source de faisceau d'electrons ayant une paroi opposee a la direction de propagation de faisceau d'electrons, la paroi etant profilee pour compenser une non-uniformite dans la distribution de densite du faisceau d'electrons.