Verfahren zur herstellung von durchgängigen membranen aus halbleitermaterialien unter nutzung von makro- und mikroporenätzung

Verfahren zur Herstellung von durchgangigen Membranen aus Halbleitermaterialien unter elektrochemischer Atzung von Makroporen an einer Flachseite eines im wesentlichen flachigen Halbleiters, mit den Schritten Atzen von der den Makroporen gegenuberliegenden Flachseite des Halbleiters unter Ausbildung von Mikroporen, die von ihrer Natur her nicht in die Makroporen eindringen, und Entfernen der mit Mikroporen durchdrungenen Opferschicht unter Freilegung der Enden der Makroporen.