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Gate-induzierte Verdehung zur Leistungsverbesserung einer CMOS Halbleiter-Vorrichtung
Gate-induzierte Verdehung zur Leistungsverbesserung einer CMOS Halbleiter-Vorrichtung
2003
Thomas Hoffmann
Stephen M. Cea
Martin Giles
Keywords:
Electronic engineering
CMOS
Materials science
Optoelectronics
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