Production de vapeur precurseur tres stable a haut rendement pour le depot de couches minces

L'invention concerne un appareil de vaporisation d'un liquide aux fins d'un depot ulterieur de couches minces sur un substrat. L'appareil comprend un boitier muni d'une entree et d'une sortie, et un reservoir a liquide. Un mecanisme regule le liquide place dans le reservoir a un niveau sensiblement constant. Un circuit d'ecoulement du gaz longe une paroi metallique poreuse presentant, d'une part des espaces interstitiels destines a contenir le liquide provenant du reservoir, d'autre part un enroulement permettant a un gaz vecteur de s'ecouler le long de la paroi metallique poreuse, afin de former un melange gaz/vapeur approprie pour le depot de couches minces.