Maitrise de l'uniformite du plasma par la courbure du diffuseur

Des modes de realisation de l'invention concernent un diffuseur de gaz monte dans une chambre de traitement. Dans un premier mode de realisation, un ensemble de distribution de gaz pour une chambre de traitement au plasma comprend un diffuseur pourvu de passages de gaz qui longent ses cotes amont et aval ainsi que des cavites de cathodes creuses sur le cote aval des passages de gaz. Le cote aval du diffuseur presente une courbure qui ameliore l'uniformite d'epaisseur et l'uniformite des proprietes des films minces deposes par PECVD, en particulier les SiN ainsi que les films de silicium amorphe. De preference, la courbure est formee par un arc de cercle ou d'ellipse, dont le sommet se situe au point central du diffuseur. Dans un premier mode de realisation, la densite volumique de la cavite de cathode creuse, la densite de l'aire specifique, ou la densite de la cavite du diffuseur, augmente du centre du diffuseur au bord exterieur. Par ailleurs, l'invention concerne des procedes de fabrication de ce diffuseur.