Composition de formation de film de couche inferieure de reserve et procede de formation de motif

L'invention concerne une composition de formation d'un film de couche inferieure de reserve. Cette composition presente une excellente resistance a la gravure et est moins susceptible, dans un processus de gravure a sec, d'entrainer une deformation d'un motif de film de couche inferieure. De plus, cette composition permet de transferer fidelement un motif de reserve sur un substrat a traiter, avec une reproductibilite elevee. La composition selon l'invention contient (A) un fullerene amine contenant au moins un groupe amino lie a un squelette fullerene et (B) un solvant.