Solution de precurseur de cvd destinee a produire un film mince contenant un metal de la serie des lanthanides, et procede de production d'un film mince faisant appel a ladite solution

L'invention a pour objectif de produire un film mince a base de multiples oxydes de metaux de la serie des lanthanides, qui contient de multiples composants, la composition desiree du film etant obtenue de maniere constante. La presente invention se rapporte a un precurseur de CVD utilise pour produire un film mince contenant un ou plusieurs metaux de la serie des lanthanides et un ou plusieurs metaux ne faisant pas partie de la serie des lanthanides. Ledit precurseur est obtenu par la dissolution d'un compose represente par la formule Ln (β-dik)3 L, dans laquelle Ln represente l'atome metallique de la serie des lanthanides, β-dik est de preference selectionne parmi un ligand dipivaloylmethane (DPM), un ligand diisobutyrylmethane (DIBM), un ligand isobutyriylpivaloylmethane (IBPM), un ligand 2,2,6,6-tetramethyle-3,5-octanedione (TMOD), un ligand acetylacetone, un ligand 6-ethyl-2,2-dimethyl-3,5-octanedione, un ligand 5-methyl-2,4-hexanedione et un ligand 5,5-dimethyl-2,4-hexanedione, L represente un ligand neutre selectionne de preference parmi 1,10-phenanthroline, 2,2'-bipyridyle et leurs derives. Le precurseur selon l'invention renferme egalement, dans un solvant, un complexe organometallique contenant un metal ne faisant pas partie de la serie des lanthanides. Une courbe TG obtenue par l'analyse thermogravimetrique (TG) du compose represente par la formule (I) presente une seule crete d'un point de pulverisation.